微纳加工

光刻掩模版，又称“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”，通常由玻璃或石英表面覆盖带有图案的金属图形构成，其作用是对光线进行遮挡或透过。它是微电子光刻工艺中的重要工具或板材，用于实现微电子工艺中的图形传递。光刻掩模版的加工技术主要有两种：激光直写技术和电子束直写技术。这两种技术的区别在于光源不同，实现的精度也有所区别。

掩模版是光刻工艺不可或缺的部件。它承载着设计图形，光线透过它，将设计图形投射在光刻胶上。掩模版的功能类似于传统照相机的“底片”。通过在掩模版上制作图形并通过下一步曝光工艺（下期讲解）转移到基底上，我们可以在基底上得到对应的相关图形。此时，基底上还没有刻上图形，只是光刻胶上有了相关图形，就像这样：

光刻胶是一种对光敏感的材料，通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化。这可能导致溶解度增加或减少，此时再通过显影液处理，不稳定的部分将被去除，剩下的就是我们想要的图形。

掩模版有哪些种类？

普通版：一般使用苏打玻璃或石英，尺寸常见为2寸到10寸，线宽一般在1um以上，主要适用于接触式曝光机，转移图形与版图尺寸为1:1，实现同比例的图形转移。

Stepper版：一般使用石英版，常见尺寸为5寸和6寸，线宽一般在500nm以上，主要用于Stepper曝光机台，转移图形与版图尺寸实际比例一般为4:1或5:1，实现将版图图形缩小4~5倍后投射于目的片上。

纳米压印版：一般使用石英版，刻蚀其表面的金属形成沟槽和透光不透光的组合，尺寸一般需要5寸及以上，采用电子束直写技术实现表面nm图形的转移，一般线宽在200~800nm左右，借助掩模版对光刻胶的压力、同时辅助紫外曝光，最终实现纳米级图形的转移。

金属掩模版：一般采用不锈钢，在不锈钢表面通过激光加工的方式实现表面镂空的图形设计，最小线宽一般要20um，可用于电子束蒸发、磁控溅射中，用于电极图形的转移。

如何制作一块版？

制作版的流程其实也是一套维纳加工的流程，我们可以通过常用的设计软件CAD、EDA等设计出我们的图形，通过光刻、显影、刻蚀处理，大概过程如下：

米格实验室可以为您提供常规掩模与高阶掩模设计及加工制造服务，具体加工能力如下，具体需求可联系详细沟通：